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本实验主要仪器设备磁控溅射系统（ATC 1800－F，美国AJA），仪器总值250万元。 该仪器为五靶三源磁控溅射系统，可制备大面积成分可控、厚度均匀的磁性金属膜、非磁性金属膜、 陶瓷膜、单层膜，共溅射多层膜等，薄膜生长速率可精确控制，并且可以对薄膜进行原位加热和退火。本实验承担应用物理专业和物理学专业部分本科生科学实验研究任务，承担凝聚态物理专业和材料物理与化学专业以及其它相关专业，硕士研究生实验研究任务。
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